10–20 System

10–20 system

 

 

10-20 시스템 또는 International 10-20 시스템은 EEG 검사, 수면다원검사 또는 자발적인 실험실 연구의 맥락에서 두피 전극의 위치를 ​​설명하고 적용하는 국제적으로 인정된 방법이다. 이 방법은 과학적 방법을 사용하여 피험자의 연구 결과 (임상 또는 연구)를 수집, 재생산 및 효과적으로 분석 및 비교할 수 있도록 하는 표준화된 테스트 방법을 유지하기 위해 개발되었다. 이 시스템은 전극의 위치와 뇌의 기본 영역, 특히 대뇌 피질 사이의 관계를 기반으로 한다.

 

수면과 각성 주기 동안 뇌는 피부에 있는 전극으로 감지할 수 있는 객관적이고 구별 가능한 다양한 전기적 패턴을 생성한다. (이러한 패턴은 다양할 수 있으며 연령, 처방약, 신체 진단, 신경학적 손상 / 상해 / 외상 및 약물 남용과 같은 다양한 외적 요인의 영향을 받을 수 있음)

 

"10"과 "20"은 인접한 전극 사이의 실제 거리가 두개골의 전체 앞뒤 또는 좌우 거리의 10% 또는 20%라는 사실을 나타낸다. 예를 들어 nasion 에서 inion 까지 머리 꼭대기를 가로질러 측정한다. 대부분의 다른 일반적인 측정 (랜드마크 방법)은 일반적으로 머리 꼭대기에서 한쪽 귀에서 시작하여 다른 쪽 귀에서 끝난다. 사용된 귀의 특정 해부학적 위치에는 이주(tragus), 귓바퀴 (auricle) 및 유양돌기 (mastoid)가 포함된다.

 

Electrode labeling

 

각 전극 배치 부위에는 엽 또는 판독 하는 뇌 영역을 식별하는 문자가 있다 . 중앙 (C), "중앙 엽"이 없다는 점에 유의해야 한다. 배치로 인해 개인에 따라 "C" 전극은 전두엽, 측두엽 및 일부 정수리-후두엽 활동의 보다 일반적인 EEG 활동을 나타내거나 나타낼 수 있으며 단계를 결정하기 위한 수면다원검사 수면 연구에서 항상 활용된다.

 

Z 사이트도 있다. "Z" (영)는 두개골의 정중선 시상면 (FpZ, Fz, Cz, Oz)에 배치된 전극을 나타내며 대부분 참조 / 측정 지점에 사용된다. 이러한 전극은 뇌량 (corpus callosum) 위에 배치될 때 측면 반구 피질 활동을 반드시 반영하거나 증폭 하지 않으며 어느 쪽 반구도 적절하게 나타내지 않는다. "Z" 전극은 특히 수면다원법 수면 연구 및 간질 발작을 나타내거나 진단하기 위한 진단 / 임상 EEG 몽타주에서 '근거' 또는 '참조'로 사용된다 (활동 또는 가능한 임상적 뇌사). 필요한 EEG 전극 수와 신중하고 측정된 배치는 각 임상 요구 사항 및 양식에 따라 증가한다.

 

짝수 번호 전극 (2, 4, 6, 8)은 머리 오른쪽에 있는 전극 배치를 나타내고 홀수 번호 (1, 3, 5, 7)는 왼쪽에 있는 전극 배치를 나타낸다. 이것은 EEG 및 EOG (눈의 심전도 측정) 전극과 ECG (심전도 측정) 전극 배치에 모두 적용된다. 턱 또는 EMG (근전도) 전극은 일반적으로 3개만 배치되고 EEG에서 차등적으로 참조될 수 있기 때문에 "오른쪽", "왼쪽" 및 "기준" 또는 "공통"으로 더 일반적으로 언급된다.

 

"A" (종종 유양 돌기의 경우 "M"이라고도 함)는 일반적으로 외이 바로 뒤에서 발견되는 두드러진 뼈 돌기를 나타낸다 (어린이 및 일부 성인에서는 덜 두드러짐). 기본적인 수면다원검사에서는 F3, F4, Fz, Cz, C3, C4, O1, O2, A1, A2 (M1, M2)가 사용된다. Cz 및 Fz는 모든 EEG 및 EOG 전극에 대한 '접지' 또는 '공통' 기준점이며 A1-A2는 모든 EEG 전극의 반대측 참조에 사용된다. 이 EEG 몽타주는 확장 또는 "발작 몽타주"가 필요한 경우 T3-T4, P3-P4 및 기타를 활용하도록 확장될 수 있다.

 

Measurement

 

특정 해부학적 랜드마크는 EEG 전극의 필수 측정 및 위치 지정에 사용된다. 이것들은 줄자로 찾을 수 있으며 종종 그리스 연필 또는 "차이나 마커"로 표시된다.

 

Nasion to Inion : nasion은 콧대 바로 위의 눈 사이에 뚜렷하게 움푹 들어간 부분이며, inion은 종종 융기로 표시되는 두개골 뒤쪽의 마루 지점이다 (눈에 띄는 후두 융기, 일반적으로 가벼운 촉진으로 위치해야 함). Z 전극에 대한 표시는 10%, 20%, 20%, 20%, 20% 및 10% 간격으로 정중선을 따라 이 지점 사이에 만들어진다. 전이개에서 전이개까지 (또는 이주 에서 이주로 : 이주는 귓바퀴)에 앞쪽으로 돌출된 연골의 작은 부분을 나타낸다. 귀의 전 지점은 각 귀 앞에 있으며 가벼운 촉진과 필요한 경우 환자에게 입을 살짝 벌리면 더 쉽게 찾을 수 있다. T3, C3, Cz, C4 및 T4 전극은 머리 꼭대기를 가로질러 측정하여 각각 10%, 20%, 20%, 20%, 20% 및 10% 간격으로 만든 표시에 배치된다. 두개골 둘레는 귀 바로 위 (T3 및 T4), 콧대 바로 위 (Fpz), 후두점 바로 위(Oz)로 측정된다. Fp2, F8, T4, T6, O2 전극은 오른쪽 귀 위쪽에서 앞쪽(Fpz)까지 측정하여 각각 5%, 10%, 10%, 10%, 10%, 5% 간격으로 배치된다 (뒤 : Oz). 왼쪽의 홀수 전극에 대해서도 동일한 작업을 수행하여 전체 둘레를 완성한다. F3, F4, P3, P4 점의 배치 측정 방법이 다르다. 앞뒤로 측정하면 (Fp1-F3-C3-P3-O1 및 Fp2-F4-C4-P4-O2 몽타주), 전면 및 후면 지점 (Fp1, Fp2, O1, O2)에서 25% "업"될 수 있다. 측면 대 측면 (F7-F3-Fz-F4-F8 및 T5-P3-Pz-P4-T6 몽타주)으로 측정하면 측면 지점 (F7, F8, T5 및 T6)에서 25% "업"될 수 있다. 대각선으로 측정하면, Nasion에서 Inion에서 C3 및 C4 점까지 C3 및 C4 점의 앞과 뒤에 20%가 된다. 이러한 각 측정 방법은 서로 다른 공칭 전극 배치를 초래한다.

 

A (또는 M) 전극을 배치할 때 양쪽 귀 뒤의 유양돌기 돌기의 가장 뚜렷한 지점을 결정하기 위해 촉진이 종종 필요하다. 그렇게 하지 않고 기준 전극을 너무 낮게 배치하면 (귓바퀴 뒤쪽, 인후 근위부) 경동맥의 인공물로 인해 EEG 및 EOG에서 "EKG 인공물"이 발생할 수 있다. EKG 인공물은 신호의 사후 필터링을 사용하거나 A / M 기준 전극의 "점프" (공동 참조)를 통해 감소될 수 있다 (참조 전극 교체가 불가능하거나 개선되거나 다른 임상적 고려 사항으로 인해 좋은 배치가 좋지 않은 경우, 선천성 기형 또는 인공와우와 같은 수술 후 고려 사항).

 

Higher-resolution systems

 

 

더 많은 전극으로 더 자세한 EEG를 기록할 때 기존 10-20 시스템 사이의 중간 사이트를 채우는 10% 분할을 사용하여 추가 전극이 추가된다. 이 새로운 전극 명명 시스템은 MCN (Modified Combinatorial Nomenclature)을 발생시키는 더 복잡하다. 이 MCN 시스템은 왼쪽 반구에 대해 1, 3, 5, 7, 9를 사용하며, 이는 이온-내전 거리의 각각 10%, 20%, 30%, 40%, 50%를 나타낸다. 추가 문자 코드를 도입하면 중간 전극 사이트의 이름을 지정할 수 있다. 이러한 새로운 문자 코드가 반드시 기본 대뇌 피질의 영역을 나타내는 것은 아니다.

 

중간 전극 위치에 대한 MCN의 새 문자 코드는 다음과 같다.

 

AF – Fp와 F 사이 FC – F와 C 사이 FT – F와 T 사이 CP – C와 P 사이 TP – T와 P 사이 PO – P와 O 사이

 

또한, MCN 시스템은 10–20 시스템의 4개 전극 이름을 바꾼다.

 

T3는 T7 T4는 T8 T5는 P7 T6은 P8

 

고해상도 명명법이 제안되었으며 "5% 시스템" 또는 "10–5 시스템"이라고 한다.

 

https://en.wikipedia.org/wiki/10%E2%80%9320_system_(EEG) 

10–20 system (EEG) - Wikipedia